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富加镓业氧化镓外延片经二轮器材验证功能具有十分显着世界竞赛优势

来源:杏彩平台注册    发布时间:2024-12-15 03:04:37

  近来,杭州富加镓业科技有限公司(以下简称:富加镓业)在第一轮器材验证基础上,优化MBE外延工艺,大幅度的进步外延片功能,依据此外延片研制的MOSFET横向功率器材,电流密度提高78.3%,比导通电阻下降约50%,使其具有显着世界竞赛优势。上述作业得到国家重点研制方案“大尺度氧化镓半导体资料与高功能器材研讨”项目支撑(项目编号:2022YFB3605500)。

  图1氧化镓MOSFET横向功率器材直流输出特性曲线,a) 第二轮成果,b)第一轮成果

  高质量的外延片是制备MOSFET横向功率器材的中心元件,MBE外延技能由于成膜质量高,膜层厚度操控准确等优势,常常用于1m以下高质量外延薄膜制备。但是,MBE外延设备加热部件在高温及富氧环境下极易氧化,且存在掺杂及缺点操控等困难,高质量MBE氧化镓外延片制备成为该范畴热门及难点问题。富加镓业在国家重点研制方案支撑下,处理了MBE外延设备及工艺制备难题,取得了高质量MBE氧化镓外延片。第二轮番片测验依据成果得出,12 m栅漏距离氧化镓MOSFET器材电流密度为107mA/mm,比导通电阻约为21.2mcm2(图1a)。相对于第一次流片同标准器材(图1b),电流密度提高了78.3%,比导通电阻下降了约50%,展示出杰出功能,有着十分显着世界竞赛优势。

  未来,富加镓业也将依据器材研制反应成果,继续改善和迭代外延产品一起,加大商场开辟,为下流器材厂商供给安稳可控的高质量氧化镓单晶衬底及外延产品,坚持我国在MBE氧化镓外延片研制及产业化竞赛优势。

  杭州富加镓业科技有限公司建立于 2019年 12 月 31 日,是杭州光学精密机械研讨所注册建立的第一家“硬科技〞企业,公司以“让世界用上好资料”为愿景,开展宽禁带半导体氧化镓资料的产业化作业,首要是做氧化镓单晶资料成长、氧化镓衬底及外延片研制、出产和出售作业,产品首要运用在于功率器材、微波射频及光电勘探等范畴。

  2022年取得浙江省科技型中小企业;2023年取得国家高新技能企业;2024年取得杭州市企业高新技能研制中心及浙江省专精特新中小企业;在氧化镓范畴,承当了国家发改委项目1项,国家工信部项目1项,参加了国家自然科学基金委、浙江省、上海市等国家及省部级项目3项。别的,取得世界专利授权12项(美国6项,日本6项),国内专利授权40项,“富加镓业”商标认证注册3项,软件著作权(“一键长晶”操控系统软件)2项。

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